紐約時裝學(xué)院 

紐約時裝技術(shù)學(xué)院，是國際著名的服裝與藝術(shù)設(shè)計院校，成立于1944年，位于美國紐約市曼哈頓區(qū)。開設(shè)專業(yè)涉及如時裝設(shè)計、廣告設(shè)計、電腦動畫及互動媒體、織物設(shè)計、室內(nèi)設(shè)計、時裝攝影、時尚產(chǎn)品管理等。

創(chuàng)始人莫蒂默(Mortimer C. Ritter)希望學(xué)院成為"一座像麻省理工學(xué)院一樣的設(shè)計學(xué)院"。因此經(jīng)過不懈的努力，F(xiàn)iT已經(jīng)成為具有豐富的成功的歷史，在紐約城市經(jīng)濟的沖擊下仍然持久屹立的著名學(xué)府。

專業(yè)設(shè)置

研究生開設(shè)專業(yè)：FIT的碩士課程雖然少卻十分獨特，且只有秋季入學(xué)。包括：藝術(shù)市場營銷、展覽設(shè)計、時裝與 面料研究、插畫、化妝品與香水營銷、全球時尚管理等。

排名

紐約時裝學(xué)院在2018年評為全美第1名的時裝院校。

根據(jù)2019年最新的CEOWORLD排名榜，F(xiàn)IT被評為全世界第1名的時裝學(xué)院。

熱門優(yōu)勢項目

藝術(shù)市場專業(yè)

展覽與體驗設(shè)計專業(yè)

時裝設(shè)計專業(yè)

碩士申請要求

語言成績

• 雅思：6.5分；托福：80分

申請材料

• 申請表
• 托?；蜓潘汲煽?/li>
• 作品集
• 短文
• 簡歷
• 推薦信兩封

作品集要求

• 展覽設(shè)計：

20個設(shè)計作品，包括：AutoCad或Vectorworks草圖;Illustrator、InDesign和Photoshop熟練運用;3D作品。提交手工創(chuàng)作和其他軟件作品有加分。攝影、繪畫、雕塑或其他媒介作品也可放入作品集。

插畫：

提交15-20個作品。必須包含寫生素描。圖片格式為LOW-RES(72像素)。不符合要求的作品集不會被列入考慮。不接受幻燈片、原創(chuàng)作品或網(wǎng)站鏈接。

以上就是為大家列舉的紐約時裝學(xué)院部分熱門專業(yè)及申請要求，希望對藝術(shù)類專業(yè)的學(xué)生有所幫助。我們將在未來繼續(xù)為大家?guī)砥渌囆g(shù)類名校的訊息，歡迎大家繼續(xù)關(guān)注斯芬克官網(wǎng)~

責(zé)任編輯：AnAn